Компания ASML представила источник излучения мощностью 250 Вт для фотолитографии в глубоком ультрафиолете

Компания ASML представила источник излучения мощностью 250 Вт для фотолитографии в глубоком ультрафиолете

Полупроводниковая отрасль вплотную приблизилась к внедрению в серийном производстве процесса фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV), перспективной при переходе к более тонким топологическим нормам. Интенсивные разработки оборудования для EUV-фотолитографии ведутся с 2012 года, но отсутствие достаточно мощного источника излучения не давало достичь необходимого для серийного производства уровня производительности. На выставке Semicon West компания ASML (Нидерланды), один из ведущих разработчиков и производителей оборудование для полупроводникового производства, продемонстрировала источник EUV-излучения мощностью 250 Вт. Такой источник должен обрабатывать 125…

Read More